Die offizielle Zweigstelle von ich_iel im Fediversum.
Alle Pfosten müssen den Titel 'ich_iel' haben, der Unterstrich darf durch ein beliebiges Symbol oder Bildschriftzeichen ersetzt werden. Ihr dürft euch frei entfalten!
📱 Empfohlene Schlaufon-Applikationen für Lassmich
Befreundete Kommunen:
Sonstiges:
Regeln:
1. Seid nett zueinander
Diskriminierung anderer Benutzer, Beleidigungen und Provokationen sind verboten.
2. Pfosten müssen den Titel 'ich_iel' oder 'ich iel' haben
Nur Pfosten mit dem Titel 'ich_iel' oder 'ich iel' sind zugelassen. Alle anderen werden automatisch entfernt.
Unterstrich oder Abstand dürfen durch ein beliebiges Textsymbol oder bis zu drei beliebige Emojis ersetzt werden.
3. Keine Hochwähl-Maimais oder (Eigen)werbung
Alle Pfosten, die um Hochwählis bitten oder Werbung beinhalten werden entfernt. Hiermit ist auch Eigenwerbung gemeint, z.b. für andere Gemeinschaften.
4. Keine Bildschirmschüsse von Unterhaltungen
Alle Pfosten, die Bildschirmschüsse von Unterhaltungen, wie beispielsweise aus WasistApplikaton oder Zwietracht zeigen, sind nicht erlaubt. Hierzu zählen auch Unterhaltungen mit KIs.
5. Keine kantigen Beiträge oder Meta-Beiträge
ich_iel ist kein kantiges Maimai-Brett. Meta-Beiträge, insbesondere über gelöschte oder gesperrte Beiträge, sind nicht erlaubt.
6. Keine Überfälle
Wer einen Überfall auf eine andere Gemeinschaft plant, muss diesen zuerst mit den Mods abklären. Brigadieren ist strengstens verboten.
7. Keine Ü40-Maimais
Maimais, die es bereits in die WasistApplikation-Familienplauderei geschafft haben oder von Rüdiger beim letzten Stammtisch herumgezeigt wurden, sind besser auf /c/ichbin40undlustig aufgehoben.
8. ich_iel ist eine humoristische Plattform
Alle Pfosten auf ich_iel müssen humorvoll gestaltet sein. Humor ist subjektiv, aber ein Pfosten muss zumindest einen humoristischen Anspruch haben. Die Atmosphäre auf ich_iel soll humorvoll und locker gehalten werden.
9. Keine Polemik, keine Köderbeiträge, keine Falschmeldungen
Beiträge, die wegen Polemik negativ auffallen, sind nicht gestattet. Desweiteren sind Pfosten nicht gestattet, die primär Empörung, Aufregung, Wut o.Ä. über ein (insbesonders, aber nicht nur) politisches Thema hervorrufen sollen. Die Verbreitung von Falschmeldungen ist bei uns nicht erlaubt.
Bitte beachtet auch die Regeln von Feddit.org
Quelle: Ein Sicherheitsdatenblatt zu Flusssäure. URL: https://www.carlroth.com/medias/SDB-HN54-DE-DE.pdf?context=bWFzdGVyfHNlY3VyaXR5RGF0YXNoZWV0c3w0MTcyOTF8YXBwbGljYXRpb24vcGRmfGFEVmhMMmhrTlM4NU1qSXpOekV4TlRJeU9EUTJMMU5FUWw5SVRqVTBYMFJGWDBSRkxuQmtaZ3xjZmRhZGYyZTdjNzUwZTZkOTczMjk3MjliMzg0MWVmMDQ0YWYxOTM5ZTE1NjVmMzA4OTExZmY2ZjQ4ODhhYWY4
Auch lustig:
Im Brandfall können entstehen: Fluorwasserstoff (HF)
Darf man erfahren, was du damit zu tun hattest?
Klar :) Ich forsche an Halbleitern und auf Silizium bildet sich an Atmosphäre ein dünner nativer Oxidfilm. Wenn man präzise elektrische Messungen machen will, ist diese Isolationsschicht störend und muss entfernt werden. Ich musste zum Glück immer nur mit ziemlich verdünnter Säure arbeiten, aber das macht einen schon nervös genug. Ich hab mir immer die nächsten 10 Stunden nach der Prozedur eingebildet, dass vielleicht meine Hand juckt und ich doch einen Tropfen übersehen habem könnte, obwohl ich rational wusste, dass durch die dicken Handschuhe nichts durchgekommen sein kann. Bei ein paar Kolleg:innen in der Siliziumtechnik nutzt man das Zeug auch teilweise als Dampf, wenn z.B. freihängende Strukturen erstellt werden sollen (MEMS Beschleunigungssensoren und ähnliches).
Witzigerweise musste meine Frau bei ihrer vorigen Arbeit auch super viel mit HF auflösen, um Erze und solche Sachen auf ihre Zusammensetzung zu analysieren. In der Firma waren aber alle komplett desensibilisiert und manche haben als einzige "Schutzmaßnahme" ihre Ärmel hochgekrempelt.
Danke.
Mein Chemiewissen reicht nicht, um diese Aussage sinnvoll zu machen. Wieso gehen dafür denn nicht andere Säuren, die wenigstens nicht noch giftig wären? Ätzt die Säure nicht auch das gediegene Silizium weg?
Mein Chemiewissen ist zugegebenermaßen jetzt auch nicht so strahlend und ich kenne mich jetzt auch nicht gut mit den Unterschieden zwischen verschiedenen Säuren aus. Ich habe aber eine kurze Infobroschüre von MicroChemicals zum Si/SiO2 ätzen gefunden. Die beliefern ganz viele Forschungseinrichtungen mit Chemikalien für Halbleiterfertigung und haben immer ganz gute Infos und in der Broschüre steht:
Hilfreich ist dabei auch, dass reines Silizium wiederum sehr schwach von HF geätzt wird (hohe Selektivität). D.h. dass du sehr gezielt diese Oxidschicht entfernst, den Kristall darunter aber nicht schädigst. Fürs Ätzen von reinem Silizium wird dieses häufig oxidiert, um dann das entstandene SiO2 zu entfernen. Was noch eine Option wäre, wäre wahrscheinlich ein Plasmaätzschritt. Das geht entweder auch mit chemischer Reaktion oder physikalisch, indem du einfach mit relativ schweren Edelgasatomen die oberen Atomlagen wegballerst ("Sputterätzen"). Das ist aber wenig selektiv, frisst ne Menge Energie und kann die Oberfläche beschädigen. Außerdem ist das ein anisotroper Prozess, d.h. ich ätze in eine Richtung wesentlich stärker als in die andere. Das ist nicht immer gewollt.
Danke für’s Ausbuddeln dieser Information. Sehr interessant!